什么是缺陷清除率、缺陷率和缺陷密度

   　 缺陷清除率（亦叫“缺陷排除率”），英文缩写DER(Defect Elimination Rate)。这个东西可以用作缺陷的预测和分析。 说到DRE就必须提到OFE(Opportunity For Error)，即错误几率。

　　缺陷密度（Defect Density）-缺陷在规模（如KLOC,PF）上的分布

      缺陷率（Defect Rate）-缺陷在时间上的分布。

　　一般来讲，在过程稳定，人员技术稳定的情况下，发现缺陷多的地方还会有更多的缺陷，即漏掉的缺陷更多。

前段时间在搞CMMI4级的模型，用到了这些东东，搞了好长时间才明白其真正含义。DER分为两种：整体缺陷清除率和阶段缺陷清除率，阶段性的缺陷清除率能够反映整体缺陷清除率。

缺陷清除率=已发现的缺陷/潜在的缺陷，由于潜在的缺陷不容易确定，故近似=已发现的缺陷/（已发现的缺陷+以后发现的缺陷）

整体缺陷清除率很容易理解，举个例子说明：对于一个软件系统，如果发布前发现的缺陷为D1，发布后发现的缺陷为D2，则总缺陷数为D=D1+D2，则整体的缺陷清除率就为D1/D。

阶段性的缺陷清除率=本阶段发现的缺陷数/（本阶段入口存在的缺陷数+本阶段注入的缺陷数）。