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什么是缺陷清除率、缺陷率和缺陷密度

     缺陷清除率(亦叫“缺陷排除率”),英文缩写DER(Defect Elimination Rate)。这个东西可以用作缺陷的预测和分析。 说到DRE就必须提到OFE(Opportunity For Error),即错误几率。

  缺陷密度(Defect Density)-缺陷在规模(如KLOC,PF)上的分布

      缺陷率(Defect Rate)-缺陷在时间上的分布。

  一般来讲,在过程稳定,人员技术稳定的情况下,发现缺陷多的地方还会有更多的缺陷,即漏掉的缺陷更多。

前段时间在搞CMMI4级的模型,用到了这些东东,搞了好长时间才明白其真正含义。DER分为两种:整体缺陷清除率和阶段缺陷清除率,阶段性的缺陷清除率能够反映整体缺陷清除率。

缺陷清除率=已发现的缺陷/潜在的缺陷,由于潜在的缺陷不容易确定,故近似=已发现的缺陷/(已发现的缺陷+以后发现的缺陷)

整体缺陷清除率很容易理解,举个例子说明:对于一个软件系统,如果发布前发现的缺陷为D1,发布后发现的缺陷为D2,则总缺陷数为D=D1+D2,则整体的缺陷清除率就为D1/D。

阶段性的缺陷清除率=本阶段发现的缺陷数/(本阶段入口存在的缺陷数+本阶段注入的缺陷数)。

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